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510所與英國真科公司就共同開發(fā)新一代高性能沉積源達成共識

時間:2017年07月28日 信息來源:中國空間技術研究院 點擊:8490 字體:

近日,510所與英國真科公司就共同開發(fā)先進電弧源、磁控濺射源達成了合作共識,標志著510所向著"借力國際合作,促高端鍍膜裝備技術快速提升"的目標又邁進了一步。

高性能電弧鍍膜裝備、磁控濺射鍍膜裝備與超硬碳基薄膜裝備是表面工程事業(yè)部重點打造的三款主打鍍膜裝備,在各工業(yè)領域有著廣泛的應用,產(chǎn)業(yè)化前景可觀。沉積源作為鍍膜裝備的核心競爭要素,對薄膜質量、薄膜均勻性、鍍膜成本控制及批量化生產(chǎn)穩(wěn)定性等至關重要。英國真空公司是世界著名的真空鍍膜裝備沉積源制造商,在磁控濺射源、電弧源、等離子體源以及反應濺射工藝控制方面擁有多項專利技術,相關市場占有率80%以上。2016年年初,510所就與真科公司建立了聯(lián)系,先后開展多次交流。本次真科公司應邀訪問510所,在該領域進行了深入細致的研討,就共同開發(fā)面向中國市場急需的高性能電弧沉積源與磁控濺射沉積源達成了共識。

后續(xù),510所將根據(jù)已達成的合作共識,與真科公司盡快啟動新一代高性能沉積源的開發(fā)工作,快速提升510所鍍膜裝備研制能力,為實現(xiàn)高端鍍膜裝備躋身"國內領先、國際一流"行列,促進高端鍍膜裝備盡早實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化奠定堅實基礎。




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